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先进工艺过剩且耗电巨大,消息称台积电计划年底关闭部分EUV光刻机

来源:IT之家  发布时间:2022-09-01 15:49  阅读量:15916   

产业链消息人士移动芯片制造商在微博中表示,由于先进工艺产能利用率开始下降,且下降时间将在评估后持续一段时间,TSMC计划从年底开始关闭部分EUV设备,以节省EUV设备的巨大功耗根据之前的报道,EUV光刻机每天需要大约3万千瓦时,一年大约消耗1000万千瓦时

本站了解到,今年7月开始有消息传出由于消费电子市场的低需求,许多芯片制造商被客户削减,甚至TSMC也难以幸免它还表示,许多芯片价格频繁暴跌,有些芯片价格下降了80%,有些芯片价格从200元下降到21.5元此前,缺芯潮席卷全球,众多芯片厂商大幅扩产以满足客户需求,快速抢占市场但今年以来,消费电子市场需求明显下降,导致相关芯片供过于求,出现了砍单降价的现象,厂商纷纷取消扩产计划

据介绍,TSMC目前拥有约80台EUV光刻机,主要用于7nm,5nm,4nm等先进工艺今年9月,TSMC还将计划量产3纳米工艺,所有这些都需要EUV光刻机可是,苹果可能是唯一订购3纳米工艺的客户因此,TSMC决定放缓其生产扩张,以确保产能不会过度闲置,造成成本压力

据彭博新闻报道,ASML新的EUV光罩对准器的每个单元消耗大约100万瓦特,大约是前几代的10倍预计2025年将占台湾省能源消耗总量的12.5%,芯片产业可能成为降低全球碳排放的重要绊脚石

不过,针对外界对发展先进工艺耗费大量电力的质疑,TSMC引用了ITRI产业科学技术国际战略发展研究所2020年的模型推导和分析结果,称TSMC每使用1度生产用电,可为全球节约4度电。

TSMC表示,该公司继续推广先进的半导体工艺技术,以生产更先进,节能和环保的产品此外,公司积极投资绿色制造,实施节能减碳相关行动,包括努力优化工艺能效,同时与机器设备制造商合作制定新的节能行动计划

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